Hastelloy C4ak Hastelloy C22 tou de fè pati "C-fanmi" Ni-Cr{-Mo alyaj epi yo ofri ekselan rezistans nan diminye ak oksidasyon medya yo; yo pa ka ranplase. Diferans ki genyen nan konpozisyon, estabilite mikrostruktur, ak korozyon yo enpòtan ak aplikasyon yo.
HastelloyC4 vs C22: Konparezon Chimik Konpozisyon
|
Eleman |
Hastelloy C4 (N06455) |
Hastelloy C22 (N06022) |
|
Nikèl (Ni) |
Balans |
Balans |
|
Kwòm (Cr) |
14.0 – 18.0 |
20.0 – 22.5 |
|
Molybdène (Mo) |
14.0 – 17.0 |
12.5 – 14.5 |
|
Tengstèn (W) |
Mwens pase oswa egal a 0.50 max |
2.5 – 3.5 |
|
Fè (Fe) |
Mwens pase oswa egal a 3.0 |
2.0 – 6.0 |
|
Cobalt (Ko) |
Mwens pase oswa egal a 2.0 |
Mwens pase oswa egal a 2.5 |
|
Kabòn (C) |
Mwens pase oswa egal a 0.015 |
Mwens pase oswa egal a 0.015 |
|
Silisyòm (Si) |
Mwens pase oswa egal a 0.08 |
Mwens pase oswa egal a 0.08 |
|
Titàn (Ti) |
0.70 max |
Pa te ajoute |
|
Vanadyòm (V) |
Mwens pase oswa egal a 0.35 |
Mwens pase oswa egal a 0.35 max |
C22 gen siyifikativman pi wo chromium ak pi bon rezistans nan anviwònman oksidant.
C4 gen yon ti kras pi wo molybdène men pa gen okenn adisyon tengstèn entansyonèl.
C4 gen Titàn pou estabilizasyon mikrostruktural; C22 pa fè sa.
HastelloyC4 vs C22: Rezistans korozyon
Hastelloy C4 rezistans korozyon
Hastelloy C4 gen rezistans korozyon nan yon pakèt anviwònman korozivite:
Asid fò, ki gen ladan asid idroklorik, asid nitrique, fliyò, ak asid silfirik.
Klori-pwovoke krak korozyon estrès nan gwo konsantrasyon klò.
Tou de asid oksidan ak asid ki pa -oksidan.
Pitting ak fant atak nan prezans klori ak lòt alogen.
C4 se patikilyèman te note pou estabilite tèmik li yo, ki fè li apwopriye pou aplikasyon ki enplike asid mineral cho nan tanperati ki wo. Li kenbe rezistans li nan krak korozyon estrès menm nan solisyon ki bay klori-.
Hastelloy C22 rezistans korozyon
Hastelloy C22 gen menm pi bon rezistans korozyon an jeneral konpare ak C4 ak lòt alyaj nikèl-chromium-molybdène. Pèfòmans siperyè li yo gen ladan:
Rezistans eksepsyonèl nan twou, kowozyon nan fant, ak krak korozyon estrès.
Pèfòmans eksepsyonèl nan tou de anviwònman oksidasyon ak modere diminye.
Ekselan rezistans nan klò mouye, asid nitrique, ak asid oksidan ki gen iyon klori.
Bonjan rezistans nan ajan oksidan fò tankou klori ferrik, klori kuprik, ak klò.
Bon pèfòmans nan anviwònman chimik melanje kote kondisyon "fache" ka rive.
Pi wo kontni chromium C22 a bay rezistans amelyore nan medya oksidan, pandan y ap kontni molybdène ak tengstèn li yo kontribye nan pèfòmans li nan diminye kondisyon yo.
HastelloyC4 vs C22: Pwopriyete mekanik ak fizik
Hastelloy C4 Pwopriyete
|
Pwopriyete |
Valè |
|
Dansite |
8.64 g/cm³ |
|
Pwen k ap fonn |
1427 degre (2600 degre F) |
|
Fòs rupture |
738 MPa (107,000 psi) |
|
Fòs Sede (0.2% konpanse) |
492 MPa (71,400 psi) |
|
Allongement nan Break |
42% |
|
Modil elastik |
211 GPa (30,600 ksi) |
Hastelloy C22 Pwopriyete
|
Pwopriyete |
Valè |
|
Dansite |
8.69 g / cm³ |
|
Pwen k ap fonn |
1399 degre (2550 degre F) |
|
Fòs rupture (fèy) |
116.3 ksi (802 MPa) |
|
Fòs Sede (fèy) |
58.5 ksi (403 MPa) |
|
Elongasyon (fèy) |
57% |
|
Modil elastik |
206 MPa (29,878 psi) |
HastelloyC4 vs C22: Rezistans Tanperati
Hastelloy C4 Tanperati Abilite
Hastelloy C4 ofri yon limit tanperati anwo nan apeprè 1900 degre F. Li se patikilyèman te note pou estabilite eksepsyonèl tèmik li yo, ki se yon avantaj kle sou kèk lòt alyaj nikèl-ki baze. Nukleasyon ak kwasans dezyèm-faz delete presipite nan fwontyè grenn yo nan zòn ki afekte chalè soude a-.
Alyaj la kenbe rezistans li nan krak korozyon estrès menm nan tanperati ki wo epi li demontre bon pèfòmans nan anviwònman pwosesis chimik ki wo -tanperati.
Hastelloy C22 Tanperati Abilite
Hastelloy C22 ka kenbe tèt ak tanperati jiska 1204 degre, fè li apwopriye pou aplikasyon pou plis tanperati ekstrèm konpare ak C4. Sepandan, li enpòtan sonje ke C22 pa ta dwe itilize nan tanperati sèvis ki pi wo a 677 degre pou peryòd pwolonje akòz fòmasyon nan faz prejidis ki fòme pi wo a tanperati sa a.
C22 reziste fòmasyon grenn-fwontyè presipite nan zòn ki afekte-chalè soude a, sa ki fè li apwopriye pou pifò aplikasyon pou pwosesis chimik nan kondisyon kòm-soude.
Hastelloy C4 vs C22: Aplikasyon
Chwazi C4 pou:
Reaktè chimik soude ekspoze a asid idroklorik / silfirik.
Pwosesis tanperati ki wo -(750–1,000 degre) ak sikilasyon tèmik.
Pri -pwojè sansib kote senplisite soude enpòtan anpil.
Chwazi C22 pou:
Konpozan lanmè, épurateur gaz lafimen, ak echanjeur chalè dlo lanmè.
Anviwònman asid melanje oswa klori oksidan.
Retretman gaz nikleyè oswa sistèm kontwòl polisyon ki pi wo a 1,000 degre.
Hastelloy C4 vs C22: Pri
C22 se tipikman 20-30% pi chè pase C4 akòz kontni tengstèn li yo ak rezistans korozyon amelyore.
C4 bay yon solisyon pri -efikas pou aplikasyon tanperati ki wo san kondisyon oksidasyon grav.
Nan pifò spesifikasyon modèn apre 2005, Hastelloy C22 te ranplase lajman C4 paske pi laj rezistans korozyon li elimine nesesite pou estoke plizyè klas C-fanmi.
Nou kenbe yon stock vaste de ASME SB366 / B16.9 Hastelloy C22 san pwoblèm bou soude ak ka bay C4 sou yon baz pwojè ak tan plon kout. Pou yonsitasyon detaye, tanpri voye li ba nou.
